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EUV新局,巨头们的攻守之道
EUV(极紫外光刻)技术是半导体制造领域的核心技术之一,其发展直接影响芯片制程的先进程度。在全球范围内,ASML作为唯一能够生产EUV光刻机的企业,占据了绝对主导地位。然而,随着台积电、三星等巨头加速布局先进制程,围绕EUV的竞争愈发激烈。
攻:多元化策略与技术突破
台积电和三星均加大了对EUV设备的投资力度,试图通过提升产能和技术水平巩固自身优势。例如,台积电计划在未来几年内将EUV工艺应用于更多产品线,并探索下一代晶体管架构以保持领先。同时,二者也在积极寻求供应链本土化,减少对外部依赖,确保关键材料与设备的稳定供应。
守:专利壁垒与生态构建
面对后来者的追赶,ASML采取了强化知识产权保护及构建生态系统的方式进行防御。一方面,它通过严格的专利布局限制竞争对手的技术模仿;另一方面,则加强与上下游企业的合作,推动整个产业链协同发展,从而形成难以撼动的优势地位。
此外,中国等新兴市场国家也在努力攻克EUV相关难题,虽然短期内难以实现大规模商用,但长期来看或将改变现有格局。因此,对于所有参与者而言,在这场没有硝烟的战争中,“攻”需精准,“守”亦不可松懈。
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