EUV（极紫外光刻）技术是半导体制造领域的核心技术之一，其发展直接影响芯片制程的先进程度。在全球范围内，ASML作为唯一能够生产EUV光刻机的企业，占据了绝对主导地位。然而，随着台积电、三星等巨头加速布局先进制程，围绕EUV的竞争愈发激烈。

攻：多元化策略与技术突破

台积电和三星均加大了对EUV设备的投资力度，试图通过提升产能和技术水平巩固自身优势。例如，台积电计划在未来几年内将EUV工艺应用于更多产品线，并探索下一代晶体管架构以保持领先。同时，二者也在积极寻求供应链本土化，减少对外部依赖，确保关键材料与设备的稳定供应。

守：专利壁垒与生态构建

面对后来者的追赶，ASML采取了强化知识产权保护及构建生态系统的方式进行防御。一方面，它通过严格的专利布局限制竞争对手的技术模仿；另一方面，则加强与上下游企业的合作，推动整个产业链协同发展，从而形成难以撼动的优势地位。

此外，中国等新兴市场国家也在努力攻克EUV相关难题，虽然短期内难以实现大规模商用，但长期来看或将改变现有格局。因此，对于所有参与者而言，在这场没有硝烟的战争中，“攻”需精准，“守”亦不可松懈。